光学实验应用设备---光刻机

作者：发布：2021-01-15 点击量：

仪器名称：光刻机

仪器类别：科研及光电实验

应用项目：基于科学与工程的光刻机项目系列实践

仪器说明：该机采用国内首创的CCD图像底面对准技术，单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩模—样片精密对准工件台结构设计，掩模—样片对准过程直观，套刻对准速度快、精度高。掩模板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式，操作方便。

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