电学实验应用设备---反应离子刻蚀机

仪器名称：反应离子刻蚀机

仪器类别：科研及本科实验教学

应用项目：使用在《微电子工艺课程设计》项目中

仪器说明：M45150-1/UM反应离子刻蚀机为干法刻蚀设备。本设备主要用于半导体器件制造工艺中的图形化转移。反应离子刻蚀（RIE）是指利用能与被刻蚀材料起化学反应的气体，通过辉光放电使之形成低温等离子体，对样品表面未被掩蔽部分进行腐蚀，是利用活性离子对衬底的物理轰击与化学反应的双重作用进行刻蚀。适用于微电子课程工艺中干法刻蚀工艺环节。